半導体プロセス・前工程「洗浄」

コース概要

半導体製造において、品質や歩留まりを左右する重要な工程のひとつが「洗浄」です。本コースでは、洗浄技術の基礎から最先端半導体デバイスへの応用まで解説します。

経験豊富な専門家が、工程全体の中で洗浄が果たす役割や最新の技術トレンドをわかりやすく紹介します。

カリキュラム構成

• はじめに
• 第1章：半導体洗浄の役割
• 第2章：洗浄技術の進化
• 第3章：最先端デバイスと洗浄の挑戦
• 第4章：まとめ

講師

株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズ 岩畑 翔太 氏

学習の目的

半導体製造における洗浄技術の基本原理を理解し、技術進化の背景や最先端プロセスにおける課題と解決アプローチを学びます。

 プロセス全体における洗浄の重要性を捉え、今後の技術開発・業務理解に役立てることを目的としています。

動画視聴時間

約1時間

対象者

• 半導体の洗浄技術に関心のある方
• 半導体デバイス、製造装置、材料メーカーなどの若手技術者
• 専門外のプロセスの基本を理解したい技術者
• 技術的背景を理解したい営業・マーケティング職
• 半導体分野を学ぶ大学生・大学院生

必要な事前知識

特になし

受講期間

1年間

コース内にオンライン理解度テストを設置

配布資料のご提供はございません